12月14日，復(fù)旦大學(xué)鄧海教授應(yīng)邀到上海有機(jī)所作交叉學(xué)科講座，在君謀樓報(bào)告廳做了主題為“High Resolution Litho Patterning Materials Development”的精彩報(bào)告。唐勇研究員主持了講座，所內(nèi)近兩百名科研人員和學(xué)生參加了此次學(xué)術(shù)活動(dòng)。
報(bào)告前唐勇研究員向大家介紹了鄧海的履歷，并將上海有機(jī)所交叉學(xué)科講座紀(jì)念牌頒發(fā)給鄧海教授。
鄧海教授結(jié)合自己多年的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗(yàn)，向大家介紹了90nm/65nm/55nm節(jié)點(diǎn)ArF光刻膠和10～5nm分辨率DSA光刻圖形化材料的研發(fā)進(jìn)展，鄧海教授談到，跟隨摩爾定律發(fā)展，半導(dǎo)體光刻分辨率不斷提高，已經(jīng)達(dá)到了7nm節(jié)點(diǎn)，臺(tái)積電明年進(jìn)入5nm節(jié)點(diǎn)的芯片量產(chǎn)。90nm-38nm分辨率的ArF光刻膠是核心關(guān)鍵材料、也是卡脖子材料、完全依賴于進(jìn)口。鄧海教授產(chǎn)業(yè)化團(tuán)隊(duì)致力于國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠的自主研發(fā)，成功開(kāi)發(fā)出ArF光刻膠，產(chǎn)品性能已經(jīng)與商用光刻膠相當(dāng)。同時(shí)，鄧教授課題組研發(fā)10～5nmLS的DSA圖形化材料。合成了一系列具有5 nm分辨率的DSA材料。該材料可以在80°C 1 min熱退火后形成5nm線條圖形、為世界上圖形化速度最快的DSA材料、有望在3nm節(jié)點(diǎn)（10nm以下分辨率）及以下的半導(dǎo)體工藝中得到應(yīng)用。
最后，鄧海教授結(jié)合自己在半導(dǎo)體光刻行業(yè)工作20年的實(shí)際經(jīng)驗(yàn)，分享了自己的心得體會(huì)，并對(duì)光刻膠產(chǎn)業(yè)進(jìn)行了展望。
鄧海教授面向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界需求，研發(fā)ArF光刻膠，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白，報(bào)告內(nèi)容聚焦學(xué)術(shù)前沿、內(nèi)容豐富、精彩生動(dòng)，會(huì)后大家紛紛提出了一些自己感興趣的問(wèn)題，鄧海教授都做了細(xì)致的解答。講座結(jié)束后唐勇研究員代表上海有機(jī)所再次感謝鄧海教授精彩的報(bào)告。
唐勇研究員向鄧海教授頒發(fā)有機(jī)所交叉學(xué)科講座紀(jì)念牌
報(bào)告會(huì)現(xiàn)場(chǎng)
鄧海博士現(xiàn)任復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院教授，中組部國(guó)家人才計(jì)劃、科技部02專項(xiàng)首席科學(xué)家，中國(guó)科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院高密度電子封裝材料與器件廣東省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室學(xué)術(shù)委員會(huì)委員。1988年畢業(yè)于中山大學(xué)，1992年在京都大學(xué)獲得碩士學(xué)位。1995年在東京工業(yè)大學(xué)獲得博士學(xué)位。分別在阿克隆大學(xué)和加州大學(xué)伯克利分校任博士后，他于1998年受聘RohmHass的“技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)輪崗職位”。在2015年加入復(fù)旦大學(xué)之前，他在半導(dǎo)體光刻行業(yè)工作了15年，曾擔(dān)任TOK fellow并擁有13年的Intel研發(fā)經(jīng)驗(yàn)。主管90nm到32 nm光刻材料的研發(fā)、選用。他曾在頂級(jí)期刊上發(fā)表30多篇學(xué)術(shù)論文，發(fā)明了10項(xiàng)美國(guó)專利。回國(guó)后，研發(fā)5nm分辨率DSA快速圖形化材料，解決了DSA需長(zhǎng)時(shí)間、高溫度圖形化的關(guān)鍵問(wèn)題。同時(shí)，面向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界需求，研發(fā)ArF光刻膠，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白。已發(fā)表多篇論文、申請(qǐng)了多項(xiàng)美國(guó)中國(guó)發(fā)明專利。
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